低表面张力聚醚胺非离子表面活性剂、其制备和它在芯片集成电路显影液中的应用。本发明属于表面活性剂领域和芯片集成电路显影工艺领域。本发明的目的是为了提供一种无金属残留的聚醚胺非离子表面活性剂以及解决四甲基氢氧化铵表面张力大的技术问题。本发明以甲酸为还原剂，三溴化硼为催化剂，因此制备N,N?二辛基聚醚胺非离子表面活性剂的过程中无金属残留，同时反应过程操作简单、伯胺转化率高、叔胺选择性好。将其与四甲基氢氧化铵水溶液复配得到显影液，所述显影液具有表面张力低，杂质金属离子含量少，满足芯片集成电路的洁净度要求，显影效果好的特点。

低表面张力聚醚胺非离子表面活性剂、其制备和它在芯片集成电路显影液中的应用。本发明属于表面活性剂领域和芯片集成电路显影工艺领域。本发明的目的是为了提供一种无金属残留的聚醚胺非离子表面活性剂以及解决四甲基氢氧化铵表面张力大的技术问题。本发明以甲酸为还原剂，三溴化硼为催化剂，因此制备N,N?二辛基聚醚胺非离子表面活性剂的过程中无金属残留，同时反应过程操作简单、伯胺转化率高、叔胺选择性好。将其与四甲基氢氧化铵水溶液复配得到显影液，所述显影液具有表面张力低，杂质金属离子含量少，满足芯片集成电路的洁净度要求，显影效果好的特点。